[发明专利]具有双脉冲易化特性的忆阻器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910129393.9 申请日: 2019-02-21
公开(公告)号: CN109935686A 公开(公告)日: 2019-06-25
发明(设计)人: 童祎;高斐;渠开放;张缪城;郭宇锋;万相;连晓娟 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 张霞
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种具有双脉冲易化特性的忆阻器件及其制备方法,所述忆阻器件包括位于中部的阻变层,以及分别设置在所述阻变层顶部、底部的顶电极、底电极,所述顶电极和底电极均与外部电源电连接,所述底电极、阻变层与所述衬底的形状、尺寸一一匹配;所述阻变层包括介质层和敷设在该介质层上方的Mxene材料膜,所述顶电极通过掩膜板的开孔溅射在所述Mxene材料膜的顶部,所述底电极的顶部、底部分别与所述介质层、衬底相触接。该忆阻器件的导电性和稳定性佳,可实现突触功能的仿生,具有广阔的应用前景;此外,本发明的制备方法简便、高效,成本低,可广泛用于工业生产。
搜索关键词: 底电极 阻变层 顶电极 介质层 制备 材料膜 双脉冲 衬底 导电性 外部电源 电连接 掩膜板 触接 溅射 开孔 突触 匹配 应用
【主权项】:
1.一种具有双脉冲易化特性的忆阻器件,设置在衬底上,其特征在于:所述忆阻器件包括位于中部的阻变层,以及分别设置在所述阻变层顶部、底部的顶电极、底电极,所述顶电极和底电极均与外部电源电连接,所述底电极、阻变层与所述衬底的形状、尺寸一一匹配;所述阻变层包括介质层和敷设在该介质层上方的Mxene材料膜,所述顶电极通过掩膜板的开孔溅射在所述Mxene材料膜的顶部,所述底电极的顶部、底部分别与所述介质层、衬底相触接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学,未经南京邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910129393.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top