[发明专利]隧道结、其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201910135365.8 | 申请日： | 2019-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN111613661A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 葛欢;宋小会 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | H01L29/02 | 分类号： | H01L29/02;H01L29/06;H01L29/66 |
| 代理公司： | 北京市英智伟诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11521 | 代理人： | 刘丹妮 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种一种隧道结，所述隧道结包括：衬底，和衬底上从下到上依次设置的：第一正常金属层，绝缘层和第二正常金属层，其中，所述绝缘层具有内凹的台阶结构，所述台阶上下薄膜断开。还提供了该隧道结的制备方法和应用。本发明为制备真空隧道结提供一种新的微加工工艺途径。这涉及制备器件的微加工技术：此种方法制备的隧道结器件包括紫外光刻，湿法刻蚀与镀膜工艺如磁控溅射或者电子束蒸发。本发明中的紫外曝光技术和湿法刻蚀技术的配合可得到多个真空隧道结，且制备成功率很高。 | ||
| 搜索关键词： | 隧道 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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