[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201910138236.4 申请日: 2019-02-25
公开(公告)号: CN110660437B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 西川浩太;坪内洋;仲井健理 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: G11C16/08 分类号: G11C16/08;G11C16/10;G11C16/24
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 杨林勳
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种能够提高写入动作的可靠性的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:第1字线,配置在半导体衬底(30)的上方;第2字线,介隔绝缘层积层在第1字线上;存储柱(MH),通过第1及第2字线,且具有半导体衬底(30)上的下部柱(LMH)、下部柱(LMH)上的上部柱(UMH)、及下部柱(LMH)与上部柱(UMH)间的接合部(JT);位线(BL),电连接于存储柱(MH);及驱动器(13),对第1及第2字线施加电压。第1字线比第2字线更靠近接合部,于在选择第2字线的写入动作时使位线(BL)升压的预充电动作中,驱动器(13)对第2字线施加电压(VCP1),对第1字线施加高于电压(VCP1)的电压(VCP2)。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
1.一种半导体存储装置,其特征在于具备:/n衬底;/n第1字线,设置在所述衬底的上方;/n第2字线,设置在所述第1字线的上方;/n第3字线,设置在所述第2字线的上方;/n第1半导体层,具有贯通所述第1字线且设置在所述衬底的上方的第1部分、贯通所述第2及第3字线且设置在所述第1部分的上方的第2部分、及设置在所述第1部分与所述第2部分之间的接合部;/n第1位线,电连接于所述第1半导体层;/n解码器,对所述第1、第2、及第3字线施加电压;/n感测放大器,对所述第1位线施加电压;及/n控制电路,控制所述解码器及感测放大器;且/n所述控制电路在对连接于所述第3字线的存储单元晶体管的写入动作中,/n以如下方式控制所述解码器:在对所述第3字线施加编程电压之前,对所述第1位线施加第1电压,对所述第3字线施加第2电压,对所述第2字线施加高于所述第2电压的第3电压。/n
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