[发明专利]一种大规模拼接焦平面探测器平面度测量装置与测量方法在审
| 申请号： | 201910144000.1 | 申请日： | 2019-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN109708593A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 孙胜利;于清华;陈凡胜;林长青;林加木 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大规模拼接焦平面探测器平面度测量装置与测量方法。其测量装置包括小F数点光源会聚光源组件和高精密位置调整系统。测试过程中，固定大规模拼接探测器不动，开启大规模拼接探测器并进行信号实时监测，调整光源组件位置，使光源会聚于探测器焦平面的预定的视场位置，并精细调整位置将其在探测器上的响应信号达到最大，记录此时高精度位置调整系统的位置坐标，之后调整至探测器焦平面下一个视场位置点如是操作与记录，直至光源组件位置遍历覆盖探测器焦平面全视场范围，之后对高精度位置调整系统的位置坐标进行平面拟合处理，进而得到探测器焦平面的光敏面平面度。该方法原理简单、易操作。 | ||
| 搜索关键词： | 探测器 焦平面 拼接 光源组件 平面度测量装置 焦平面探测器 调整系统 精度位置 视场位置 位置坐标 光源 会聚 测量 位置调整系统 信号实时监测 测量装置 测试过程 精细调整 平面拟合 响应信号 高精密 光敏面 平面度 全视场 遍历 记录 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种大规模拼接焦平面探测器平面度测量装置，包括小F数点光源会聚光源组件和高精密位置调整系统，其特征在于：所述的大规模拼接焦平面探测器平面度测量装置中光源组件的工作谱段覆盖预定检测的焦平面探测器响应谱段；光源组件的后工作距满足大规模拼接焦平面探测器平面度测量需求；高精密位置调整系统与小F数点光源会聚光源组件刚性固定链接，且高精度位置调整系统的位置测量精度满足满足大规模拼接焦平面探测器平面度测量需求。
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