[发明专利]投射光学系统单元、投射光学系统以及投射光学装置有效

专利信息
申请号: 201910145042.7 申请日: 2019-02-27
公开(公告)号: CN110286549B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 高野洋平;中山裕俊 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: G03B21/00 分类号: G03B21/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王增强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于,提供小型且高效率的短距离投射光学系统单元、投射光学系统以及投射光学装置。投射光学系统单元具有通过改变多个微镜各自的反射面相对于图像显示面的法线的角度来形成图像的反射型图像显示元件、以及通过多个透镜和光圈将图像显示元件形成的图像放大投射到被投射面上的投射光学系统,当设定微镜的反射面相对于图像显示面的法线的最大倾角为θ1,投射光学系统的入瞳距离为EP,以投射光学系统的多个透镜之中最多的透镜所共有的轴为投射光学系统的光轴,在从图像显示面的中心经过投射光学系统的中心射往被透射面的光线所在的平面C上,从光轴到图像显示面上的点的最大距离为Ym时,满足θ1≥15°,3<EP/Ym<7。
搜索关键词: 投射 光学系统 单元 以及 光学 装置
【主权项】:
1.一种投射光学系统单元,其特征在于,具有反射型图像显示元件和投射光学系统,该图像显示元件具有多个微镜,用该多个微镜二维排列形成的面作为图像显示面,通过改变所述微镜各自的反射面相对于该图像显示面的法线的角度来形成图像,所述投射光学系统具有多个透镜和光圈,将所述图像显示元件所形成的图像放大投射到被投射面上,当设定,所述微镜的反射面相对于所述图像显示面的法线的最大倾角为θ1,所述投射光学系统的入瞳距离为EP,以所述投射光学系统的多个透镜之中最多的透镜所共有的轴为所述投射光学系统的光轴,在从所述图像显示面的中心经过所述投射光学系统的中心射往所述被透射面的光线所在的平面C上,从所述光轴到与所述被投射面的图像相对应的图像显示面上的点的最大距离为Ym时,所述投射光学系统单元满足以下关系式,θ1≥15°3<EP/Ym<7。
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