[发明专利]一种负温度系数热敏薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910145223.X | 申请日： | 2019-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN109735807B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | 傅邱云;李睿锋;周东祥;郑志平;罗为 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 许恒恒;李智 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种负温度系数热敏薄膜的制备方法，包括以下步骤：(1)衬底的清洗；(2)热敏薄膜制备：采用磁控溅射法将Mn‑Co‑Ni系合金靶材溅射到衬底上得到Mn‑Co‑Ni系薄膜；(3)退火处理：将Mn‑Co‑Ni系薄膜在含有氧气的气氛下进行退火氧化处理，即可得到Mn‑Co‑Ni‑O系负温度系数热敏薄膜。本发明通过对制备方法整体流程工艺设计，尤其是关键溅射工艺所采用的靶材料进行改进，以Mn‑Co‑Ni系合金作为靶材，与现有技术相比能够有效解决磁控溅射法制备热敏薄膜时陶瓷靶材容易碎裂、利用率低的问题，制备方法操作简单，容易实现，重复性好。 | ||
| 搜索关键词： | 热敏薄膜 制备 负温度系数 衬底 溅射 薄膜 退火 磁控溅射法 碎裂 磁控溅射 工艺设计 合金靶材 陶瓷靶材 退火处理 氧化处理 有效解决 整体流程 靶材料 靶材 氧气 合金 清洗 改进 | ||
【主权项】：
1.一种负温度系数热敏薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)衬底的清洗；(2)热敏薄膜制备：采用磁控溅射法将Mn‑Co‑Ni系合金靶材溅射到步骤(1)清洗后所得的干燥的衬底上，得到Mn‑Co‑Ni系薄膜；其中，所述溅射所采用的条件为：基础气压<1x10‑4Pa，溅射气体为纯度不低于99.9％的高纯Ar气，溅射功率为80‑120W，衬底温度为100‑250℃；(3)退火处理：将步骤(2)所得的Mn‑Co‑Ni系薄膜在含有氧气的气氛下进行退火氧化处理制备得到Mn‑Co‑Ni‑O系薄膜，该Mn‑Co‑Ni‑O系薄膜即Mn‑Co‑Ni‑O系负温度系数热敏薄膜；其中，所述退火氧化处理所使用的退火温度为600‑900℃，退火保温时间为90‑150分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910145223.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
