[发明专利]半导体封装结构及用于形成半导体封装结构的方法有效

专利信息
申请号: 201910146963.5 申请日: 2019-02-27
公开(公告)号: CN110544687B 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 叶庭聿;许家豪;陈伟铭;丁国强;俞笃豪;侯上勇 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/18 分类号: H01L25/18;H01L23/367;H01L23/31;H01L21/56;H01L21/48;H01L21/60;H01L23/488
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 龚诗靖
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例涉及一种半导体封装结构及用于形成半导体封装结构的方法,所述半导体封装结构包含:衬底;第一半导体裸片及第二半导体裸片,其位于所述衬底上方;及多热接口材料TIM结构,其经安置于所述第一半导体裸片及所述第二半导体裸片上方。所述第一半导体裸片包含第一热输出,且所述第二半导体裸片包含小于所述第一热输出的第二热输出。所述多TIM结构包含经安置于所述第一半导体裸片的至少一部分上方的第一TIM层及第二TIM层。所述第一TIM层的导热系数高于所述第二TIM层的导热系数。所述第一TIM层覆盖所述第一半导体裸片。
搜索关键词: 半导体 封装 结构 用于 形成 方法
【主权项】:
1.一种半导体封装结构,其包括:/n衬底;/n多个半导体裸片,其位于所述衬底上方;及/n多热接口材料TIM结构,其位于所述多个半导体裸片上方,/n其中所述多TIM结构包括第一TIM层及第二TIM层,且所述第一TIM层的导热系数(Tk)不同于所述第二TIM层的导热系数。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910146963.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top