[发明专利]一种N型块材稀磁半导体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910151453.7 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109920617A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 宁凡龙;郭胜利;顾轶伦 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01F1/40 分类号: H01F1/40;H01F41/00;C30B29/40;C30B1/10
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 郑海峰
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种N型块材稀磁半导体及其制备方法。本发明采用固相反应法,并使用淬火的方法制得N型块材稀磁半导体,该样品具有与ThCr2Si2相同的四方的晶体结构,居里温度最高可达到45K。采用淬火方法得到的样品没有正交结构的杂相。获得N型块材稀磁半导体,对稀磁半导体的物理研究以及潜在的应用都有着重要的意义。
搜索关键词: 稀磁半导体 块材 淬火 制备 固相反应法 晶体结构 物理研究 正交结构 潜在的 应用
【主权项】:
1.一种N型块材稀磁半导体的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)Ba(Zn1‑xCox)2As2前驱体的制备根据通式Ba(Zn1‑xCox)2As2,按照各个组成物的配比,将Ba、Zn、Co和As在惰性气体中混合,烧结,自然降温,即得Ba(Zn1‑xCox)2As2前驱体;其中x=0.01‑0.05;2)Ba(Zn1‑xCox)2As2块材N型稀磁半导体的制备在惰性气体中,将Ba(Zn1‑xCox)2As2前驱体压制成片,烧结,淬火,即得N型块材稀磁半导体。
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