[发明专利]制造噁唑化合物的方法在审
| 申请号： | 201910152842.1 | 申请日： | 2013-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109879828A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 冈田稔;株木隆志;藤枝茂男;古关直 | 申请（专利权）人： | 大塚制药株式会社 |
| 主分类号： | C07D263/32 | 分类号： | C07D263/32 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;李国卿 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的目的是提供用于制造噁唑化合物的新方法。本发明涉及用于制造式(1)所示的化合物的方法。式中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基；R5是低级烷基；R11是低级烷基、被卤素取代的低级烷基或式‑CY2COOR12所示的基团，其中Y是卤原子，R12是碱金属原子或低级烷基；Ar1是被低级烷基等取代的苯基或被低级烷基等取代的吡啶基；X2、X3和X9相同或不同，并为卤原子；X4是离去基团；M是碱金属原子。 |
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| 搜索关键词： | 低级烷基 式( 1 ) 碱金属原子 唑化合物 卤原子 制造 吡啶基 苯基 式中 | ||
【主权项】：
1.式(12)所示的化合物，![]()
其中，R1是低级烷基或被卤素取代的低级烷基；R2是低级烷基。
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