[发明专利]一种化学机械研磨装置及方法在审
| 申请号： | 201910157222.7 | 申请日： | 2019-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN109877699A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 杨俊铖 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/015 | 分类号： | B24B37/015;B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 高洁;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械研磨装置及方法，包括：研磨平台；以及，温控机构，与所述研磨平台连接，用于对所述研磨平台的表面温度进行控制，并在所述装置执行CMP工艺时，控制所述研磨平台的表面温度处于预设温度范围，以使所述CMP工艺的研磨速率基于所述预设温度范围而提高。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨平台 化学机械研磨装置 预设 温控机构 研磨 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨CMP装置，其特征在于，包括：研磨平台；以及，温控机构，与所述研磨平台连接，用于对所述研磨平台的表面温度进行控制，并在所述装置执行CMP工艺时，控制所述研磨平台的表面温度处于预设温度范围，以使所述CMP工艺的研磨速率基于所述预设温度范围而提高。
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