[发明专利]ZnSe半柱面镜开发工艺在审
| 申请号： | 201910159298.3 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN109909813A | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 胡卫东;王冬;李远哲 | 申请（专利权）人： | 合肥嘉东光学股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;G02B1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了ZnSe半柱面镜开发工艺，本发明为了解决现有技术的存在的缺点，提出了nSe半柱面镜开发工艺，包括以下步骤：S1，根据产品尺寸(R12.7*12.7*25.4)，选用相应面镜基材，尺寸28*27*14，S2，成盘加工基材，环磨加工可良好保证整盘尺寸一致性，分别加工6个表面，S3，环抛27*25.4面，尺寸至27*25.4*13.5(0/‑0.005)，S4，取两件环抛完成的半成品，将两抛光面(27*25.4)用光敏胶胶合，良好保证平面光洁度，胶合后半成品尺寸为27*27*25.4，S5，磨边，磨边至外径D25.6(0/‑0.02)尺寸，S7，将两块产品拆除，去除平面光敏胶，上盘，低抛加工产品柱面，并达到客户需求；抛光前产品消耗尺寸一致，抛光加工尺寸消耗0.02左右，S8，下盘，清洗，倒边，产品完工。本发明利用常规长方体基材即可，有效节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 半柱面镜 胶合 光敏胶 基材 磨边 半成品 光洁度 有效节约成本 尺寸一致性 消耗 尺寸一致 加工产品 加工基材 客户需求 抛光加工 磨加工 抛光面 抛光 倒边 开发 面镜 上盘 下盘 柱面 去除 清洗 保证 拆除 加工 | ||
【主权项】：
1.ZnSe半柱面镜开发工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1，根据产品尺寸(R12.7*12.7*25.4)，选用相应面镜基材，尺寸28*27*14，无严格要求。S2，成盘加工基材，环磨加工可良好保证整盘尺寸一致性，分别加工6个表面。S3，环抛27*25.4面，尺寸至27*25.4*13.5(0/‑0.005)，且保证光圈良好(最终为产品S2面)。S4，取两件环抛完成的半成品，将两抛光面(27*25.4)用光敏胶胶合，良好保证平面光洁度，胶合后半成品尺寸为27*27*25.4；并在27*27两面各胶合一D27左右平凸透镜。S5，磨边：将平凸透镜凸面作为定位面，磨边至外径D25.6(0/‑0.02)尺寸；(透镜与磨边夹具接触，定位稳定，便于磨边加工)。S6，将两边透镜拆除，V型槽手工搓圆至D25.4，保证整根产品外径一致性0.02以内。S7，将两块产品拆除，去除平面光敏胶，上盘，低抛加工产品柱面，并达到客户需求；抛光前产品消耗尺寸一致，抛光加工尺寸消耗0.02左右，对偏心影响微小，有效保证偏心要求。S8，下盘，清洗，倒边，产品完工。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥嘉东光学股份有限公司，未经合肥嘉东光学股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910159298.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种风电大球抛光工艺
- 下一篇：一种电解旋转超声磁力复合对孔边毛刺去除的装置
