[发明专利]一种C-3位烷基取代香豆素衍生物的合成方法有效

专利信息
申请号: 201910161315.7 申请日: 2019-03-04
公开(公告)号: CN109761943B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 孙彬;金灿;颜志阳 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C07D311/12 分类号: C07D311/12;C07D311/14;C07D311/16;C07D311/18
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 周红芳
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种C‑3位烷基取代香豆素衍生物的合成方法,它将式(I)所示的香豆素衍生物、式(II)所示的N‑烷酰氧基邻苯二甲酰亚胺类化合物、光催化剂和质子酸溶于有机溶剂中,在可见光照射下,于20‑60℃温度下反应3‑36 h,反应结束后,反应体系经后处理得到式(III)所示的C‑3位烷基取代香豆素衍生物目标产物;反应式如下:式(I)和式(III)中,取代基R1为H、甲基、甲氧基、氟、氯或溴;式(II)和式(III)中,取代基R2为C1‑C8的直链烷基或环烷基。本发明以光作为反应能源实现了香豆素C‑3烷基化,使反应更加安全、绿色,成本更低,拓展了反应的底物适用范围,丰富了C‑3取代的香豆素类化合物合成方法。
搜索关键词: 一种 烷基 取代 香豆素 衍生物 合成 方法
【主权项】:
1.一种式(III)所示的C‑3位烷基取代香豆素衍生物的合成方法,其特征在于将式(I)所示的香豆素衍生物、式(II)所示的N‑烷酰氧基邻苯二甲酰亚胺类化合物、光催化剂和质子酸溶于有机溶剂中,在可见光照射下,于20‑60℃温度下反应3‑36 h,反应结束后,反应体系经后处理得到式(III)所示的C‑3位烷基取代香豆素衍生物目标产物;反应式如下:式(I)和式(III)中,取代基R1为H、甲基、甲氧基、氟、氯或溴;式(II)和式(III)中,取代基R2为C1‑C8的直链烷基或环烷基。
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