[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制备方法和显示装置在审
申请号: | 201910163878.X | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN109856908A | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 谌伟;黄中浩;田茂坤;王恺;董晓楠 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;H01L21/027 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供一种掩膜版、显示基板及其制备方法和显示装置,掩膜版包括不透光区域,不透光区域对应显示基板的沟道区域。本发明提供的掩膜版,存在不透光区域,且不透光区域对应显示基板的沟道区域,在制作显示基板的有源层图形时,沟道区域不会被曝光并形成保护层,这样,在进一步制作源漏金属层时,一部分源漏金属层会沉积在未曝光的保护层上,这部分源漏金属层能够随保护层去除,并使该区域形成显示基板的沟道区域,降低了损坏显示基板的有源层图形的可能性。 | ||
搜索关键词: | 显示基板 不透光区域 沟道区域 掩膜版 保护层 源漏金属层 显示装置 源层 制备 漏金属层 区域形成 曝光 制作源 沉积 去除 制作 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版,用于制作显示基板,其特征在于,所述掩膜版包括不透光区域,所述不透光区域对应所述显示基板的沟道区域。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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