[发明专利]一种掩膜版、显示基板及其制备方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 201910163878.X 申请日: 2019-03-05
公开(公告)号: CN109856908A 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 谌伟;黄中浩;田茂坤;王恺;董晓楠 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/32 分类号: G03F1/32;H01L21/027
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种掩膜版、显示基板及其制备方法和显示装置,掩膜版包括不透光区域,不透光区域对应显示基板的沟道区域。本发明提供的掩膜版,存在不透光区域,且不透光区域对应显示基板的沟道区域,在制作显示基板的有源层图形时,沟道区域不会被曝光并形成保护层,这样,在进一步制作源漏金属层时,一部分源漏金属层会沉积在未曝光的保护层上,这部分源漏金属层能够随保护层去除,并使该区域形成显示基板的沟道区域,降低了损坏显示基板的有源层图形的可能性。
搜索关键词: 显示基板 不透光区域 沟道区域 掩膜版 保护层 源漏金属层 显示装置 源层 制备 漏金属层 区域形成 曝光 制作源 沉积 去除 制作
【主权项】:
1.一种掩膜版,用于制作显示基板,其特征在于,所述掩膜版包括不透光区域,所述不透光区域对应所述显示基板的沟道区域。
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