[发明专利]一种阵列基板、显示装置以及阵列基板的制备方法在审
| 申请号： | 201910165143.0 | 申请日： | 2019-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN109817647A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 刘弘;方业周;王凤国;武新国;郭志轩;李凯;田亮;王海东;马波;杨越;张东;冯宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板、显示装置和阵列基板的制备方法，包括衬底，层叠设置在所述衬底上的PI层、保护层、薄膜晶体管层和介质层；其中，所述PI层贴附在所述衬底上；所述介质层包括层叠设置的无机介质层和有机介质层。所述保护层用于防止基板在进行其他工艺时受水汽及杂质的影响；同时用于在激光分离Glass时，隔绝热量、吸收激光能量，避免激光对晶体管中的P型硅造成电学特性的影响。所述介质层包括无机介质层和有机介质层，相对传统的介质层仅包括无机介质层且无机介质层比较厚，本发明实施例将无机介质层的厚度减小，并增加了一层有机介质层，提升了介质层的延展性和平坦性，能够防止介质层的断裂。 | ||
| 搜索关键词： | 介质层 无机介质层 阵列基板 有机介质层 衬底 层叠设置 显示装置 保护层 制备 激光 薄膜晶体管层 吸收激光能量 延展性 电学特性 厚度减小 水汽 传统的 晶体管 基板 贴附 断裂 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底，层叠设置在所述衬底上的PI层、保护层、薄膜晶体管层和介质层；其中，所述PI层贴附在所述衬底上；所述介质层包括层叠设置的无机介质层和有机介质层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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