[发明专利]一种含有修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸混合配体的Nd(III)化合物发光材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910167798.1 申请日: 2019-03-06
公开(公告)号: CN109824706B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 冯勋;李俊霞;杜正好;张道铭;刘晶;马录芳 申请(专利权)人: 洛阳师范学院
主分类号: C07F5/00 分类号: C07F5/00;C09K11/06
代理公司: 洛阳九创知识产权代理事务所(普通合伙) 41156 代理人: 炊万庭
地址: 471000 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种含有混合修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸配体的Nd化合物发光材料及其制备方法,发光材料的化学式为:{[Nd2(dpda)(Hpimda)2(H2O)3]·H2O}n,其中,配体H2dpda为2,6‑二甲基吡啶‑3,5‑二甲酸,H3pimda为1‑H‑2‑丙基‑4,5‑咪唑二羧酸,配合物晶体属于单斜晶系,空间群为p2ybc,晶胞参数为β=104.086(3)°,该材料可被近紫外光激发,并发射出近红外荧光。H2dpda配体和H3pimda配体合成Nd混合配体配位聚合物,可以使电子易于传递,荧光效率升高,该材料可满足稀土荧光粉、波导传输、公共场所安全防护、近红外检测应用领域的要求。本发明弥补了基于单一配体的稀土化合物的缺陷,敏化稀土离子的电荷跃迁,具有荧光强度大、热稳定性高、发光寿命长的优点。
搜索关键词: 一种 含有 修饰 咪唑 羧酸 吡啶 混合 nd iii 化合物 发光 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种含有修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸混合配体的Nd(III)化合物发光材料,其特征在于:发光材料的化学式为:{[Nd2(dpda)(Hpimda)2(H2O)3]·H2O}n,其中,配体H2dpda为2,6‑二甲基吡啶‑3,5‑二甲酸,H3pimda为1‑H‑2‑丙基‑4,5‑咪唑二羧酸,配合物晶体属于单斜晶系,空间群为P2ybc,晶胞参数为β=104.086(3)°,该材料可被近紫外光激发,并发射出近红外荧光。
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