[发明专利]一种含有修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸混合配体的Nd(III)化合物发光材料及其制备方法有效
申请号: | 201910167798.1 | 申请日: | 2019-03-06 |
公开(公告)号: | CN109824706B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 冯勋;李俊霞;杜正好;张道铭;刘晶;马录芳 | 申请(专利权)人: | 洛阳师范学院 |
主分类号: | C07F5/00 | 分类号: | C07F5/00;C09K11/06 |
代理公司: | 洛阳九创知识产权代理事务所(普通合伙) 41156 | 代理人: | 炊万庭 |
地址: | 471000 *** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: |
本发明涉及一种含有混合修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸配体的Nd化合物发光材料及其制备方法,发光材料的化学式为:{[Nd |
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搜索关键词: | 一种 含有 修饰 咪唑 羧酸 吡啶 混合 nd iii 化合物 发光 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含有修饰咪唑羧酸和吡啶羧酸混合配体的Nd(III)化合物发光材料,其特征在于:发光材料的化学式为:{[Nd2(dpda)(Hpimda)2(H2O)3]·H2O}n,其中,配体H2dpda为2,6‑二甲基吡啶‑3,5‑二甲酸,H3pimda为1‑H‑2‑丙基‑4,5‑咪唑二羧酸,配合物晶体属于单斜晶系,空间群为P2ybc,晶胞参数为![]()
β=104.086(3)°,
该材料可被近紫外光激发,并发射出近红外荧光。
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