[发明专利]一种阵列基板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201910169050.5 申请日: 2019-03-06
公开(公告)号: CN109814297A 公开(公告)日: 2019-05-28
发明(设计)人: 谭聪;林凡;唐大海 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1337;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种阵列基板及显示装置,阵列基板包括:配向层、公共电极层、像素电极层和钝化保护层,所述公共电极层设置于所述配向层的下方;其中所述钝化保护层包括第一钝化保护层和第二钝化保护层,所述第一钝化保护层设置于所述公共电极层的下方,所述第二钝化保护层设置于所述第一钝化保护层的下方。在配向层下方设置第一钝化保护层和第二钝化保护层,靠近配向层的第一钝化保护层阻抗低于第二钝化保护层的阻抗,这样的设置方式能够使积累在配向层和液晶层界面间的残留DC电荷快速释放,改善因残留DC电荷积累后缓慢释放导致的影像残留现象,提升液晶显示面板长期信赖性能力。
搜索关键词: 钝化保护层 配向层 公共电极层 阵列基板 显示装置 阻抗 残留 液晶显示面板 像素电极层 液晶层界面 电荷积累 缓慢释放 快速释放 设置方式 影像残留 电荷 信赖性 积累
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,其包括:配向层、公共电极层、像素电极层和钝化保护层,所述公共电极层设置于所述配向层的下方;其中所述钝化保护层包括第一钝化保护层和第二钝化保护层,所述第一钝化保护层设置于所述公共电极层的下方,所述第二钝化保护层设置于所述第一钝化保护层的下方,所述像素电极层设置于所述第二钝化保护层的下方;其中所述第一钝化保护层的阻抗小于所述第二钝化保护层的阻抗。
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