[发明专利]一种锆钛酸铅/氧化镍铁电超晶格薄膜材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910170201.9 申请日: 2019-03-07
公开(公告)号: CN109797367B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 宁兴坤;伞星源;陈明敬;赵国庆;刘鹏;王江龙;王淑芳;傅广生 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/08
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 苏艳肃
地址: 071002 河北*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种锆钛酸铅/氧化镍铁电超晶格薄膜材料及其制备方法,所述铁电超晶格薄膜材料包括锆钛酸铅薄膜和氧化镍薄膜,所述锆钛酸铅薄膜与氧化镍薄膜逐层交替外延生长,锆钛酸铅层的单层厚度为10 u.c.,氧化镍层的单层厚度为1~10 u.c.。铁电超晶格薄膜材料的总厚度为80~160 nm。所述锆钛酸铅/氧化镍铁电超晶格薄膜材料是采用脉冲激光沉积技术制得的。本发明铁电超晶格材料的制备工艺简单,所得锆钛酸铅/氧化镍铁电超晶格薄膜材料兼具优良的铁电性能和介电性能,有效提高了铁电超晶格薄膜材料的综合性能,且生产成本低,在铁电集成微电子器件领域应用前景广阔。
搜索关键词: 一种 锆钛酸铅 氧化 镍铁电超 晶格 薄膜 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种铁电超晶格薄膜材料,其特征在于,包括锆钛酸铅薄膜和氧化镍薄膜,所述锆钛酸铅薄膜与氧化镍薄膜逐层交替外延生长,锆钛酸铅层的单层厚度为10 u.c.,氧化镍层的单层厚度为1~10 u.c.。
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