[发明专利]透镜盖、具有透镜盖的光电二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910173143.5 申请日: 2019-03-07
公开(公告)号: CN110265490A 公开(公告)日: 2019-09-20
发明(设计)人: R·海特乐;R·诺泽;G·米特梅尔 申请(专利权)人: 肖特股份有限公司
主分类号: H01L31/0203 分类号: H01L31/0203;H01L31/0232;H01L31/102
代理公司: 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 代理人: 赵飞;彭臻臻
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 具有透镜盖的光电二极管,光电二极管包括具有光电二极管有源面区域的底座,其中,光电二极管有源面区域具有直径dF;还包括具有熔接透镜的盖,其中,熔接透镜在盖的上表面的俯视图中具有直径dL。熔接透镜的直径与光电二极管有源面区域的直径的比例dL/dF大于30。
搜索关键词: 光电二极管 透镜 面区域 透镜盖 熔接 俯视图 上表面 底座 制造
【主权项】:
1.一种具有透镜盖的光电二极管,所述光电二极管包括具有光电二极管有源面区域的底座,其中,所述光电二极管有源面区域具有直径dF;还包括具有熔接透镜的盖,其中,所述熔接透镜在所述盖的上表面的俯视图中具有直径dL;其中,所述熔接透镜的直径与所述光电二极管有源面区域的直径的比例dL/dF大于30、优选大于35、特别优选大于40。
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