[发明专利]一种激光整形光学元件及其设计方法有效
| 申请号： | 201910173373.1 | 申请日： | 2019-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN109814266B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 郑国兴;李子乐;陶金;武霖;余少华 | 申请（专利权）人： | 武汉邮电科学研究院有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B27/00 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 张凯 |
| 地址： | 430074 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光整形光学元件及其设计方法，涉及光学技术领域，激光整形光学元件包括透明基底，透明基底的工作面上刻蚀有纳米砖阵列，纳米砖阵列包括多个尺寸相同的纳米砖，纳米砖为半透半反式相位板，各纳米砖的朝向角Φ(x)＝ψ(x)/2；其中，x表示纳米砖的中心点的横坐标值，ψ(x)为纳米砖的相位调制量，Φ(x)为纳米砖的转向角，即纳米砖长轴与水平轴的夹角；纳米砖阵列中的具有相同x值的纳米砖的转角相同，且相邻的各纳米砖的中心间隔相同。本发明基于简单的光学结构以及机械结构，实现环形投射效果，为光学领域的应用提供实施基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 整形 光学 元件 及其 设计 方法 | ||
【主权项】：
1.一种激光整形光学元件，其包括透明基底，其特征在于：所述透明基底的工作面上刻蚀有纳米砖阵列，所述纳米砖阵列包括多个尺寸相同的纳米砖，所述纳米砖为半透半反式相位板，各所述纳米砖的朝向角Φ(x)＝ψ(x)/2；其中，x表示所述纳米砖的中心点的横坐标值，ψ(x)为所述纳米砖的相位调制量，Φ(x)为所述纳米砖的转向角，即纳米砖长轴与水平轴的夹角；所述纳米砖阵列中的具有相同x值的所述纳米砖的转角相同，且相邻的各所述纳米砖的中心间隔相同；x和y方向即工作面坐标系xoy的x轴和y轴方向；所述光学元件用于将垂直所述工作面的入射光线整形为与各所述纳米砖垂直的环形光束。
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