[发明专利]自动曝光控制方法及自动曝光控制组件系统有效
申请号: | 201910179214.2 | 申请日: | 2019-03-11 |
公开(公告)号: | CN109618113B | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 黄翌敏 | 申请(专利权)人: | 上海奕瑞光电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N5/32 | 分类号: | H04N5/32;H04N5/235;H04N5/353 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 佟婷婷 |
地址: | 201201 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种自动曝光控制方法及自动曝光控制组件系统,控制方法包括:提供待测物,至少一个待测区域;提供图像传感器,待测区域对应设置,包括由若干个呈阵列排布的光敏元构成的光敏元阵列,光敏元阵列至少包括若干个第一光敏元及若干个第二光敏元;开启射线源,对待测区域进行第一预设时间的曝光后读出第一光敏元上的第一读出信号;继续进行第二预设时间的曝光,关闭光敏元并读出第二光敏元上的第二读出信号;基于第二读出信号及第一读出信号获取待测区域的预设剂量阈值,并获取达到预设辐射剂量的剩余时间,以控制射线源的曝光,本发明直接利用图像传感器,通过特殊设计的扫描驱动以及信号读出方式并配合相关判断算法实现曝光剂量探测功能。 | ||
搜索关键词: | 光敏元 自动曝光控制 读出信号 预设 待测区域 读出 图像传感器 组件系统 射线源 曝光 辐射剂量 曝光剂量 扫描驱动 算法实现 探测功能 阵列排布 待测物 配合 | ||
【主权项】:
1.一种自动曝光控制方法,其特征在于,所述控制方法包括:提供待测物,所述待测物包括至少一个待测区域;提供图像传感器,所述图像传感器与所述待测区域对应设置,所述图像传感器包括由若干个呈阵列排布的光敏元构成的光敏元阵列,所述光敏元阵列至少包括若干个第一光敏元及若干个第二光敏元;开启射线源,打开所述光敏元,对所述待测区域进行第一预设时间的曝光后读出所述第一光敏元上的信号,以获取第一读出信号;保持所述射线源对所述待测区域继续进行第二预设时间的曝光,关闭所述光敏元并读出所述第二光敏元上的信号,以获取第二读出信号;以及基于所述第二读出信号及所述第一读出信号获取所述待测区域的预设剂量阈值,并基于所述预设剂量阈值获取所述待测区域达到预设辐射剂量射线辐射时的剩余时间,以基于所述剩余时间控制所述射线源的曝光;其中所述预设剂量阈值包括剂量率及灰度值变化率中的任意一种。
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