[发明专利]制作具有可变磁化强度的构件的方法和相关构件有效
| 申请号： | 201910183994.8 | 申请日： | 2019-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN110257755B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 张万明;邹旻;F.约翰逊 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;C23C8/04;C23C8/10;C23C8/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡宗鑫;陈浩然 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种形成在饱和磁化强度方面具有差异的构件的方法。该方法包括通过使被掩蔽的金属构件暴露于富氮气氛而使氮选择性地扩散到被掩蔽的金属构件的金属构件中。该被掩蔽的金属构件包括在金属构件的表面上形成的图案化的氧化物层，且该图案化的氧化物层包括存在于金属构件中的金属的氧化物。还提出了一种相关构件。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 具有 可变 磁化 强度 构件 方法 相关 | ||
【主权项】：
1.一种形成在饱和磁化强度方面具有差异的构件的方法，包括：通过使被掩蔽的金属构件暴露于富氮气氛而使氮选择性地扩散到所述被掩蔽的金属构件的金属构件中，其中所述被掩蔽的金属构件包括在所述金属构件的表面上形成的图案化的氧化物层，所述图案化的氧化物层包括存在于所述金属构件中的金属的氧化物。
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