[发明专利]磁头及磁记录再现装置有效
| 申请号： | 201910184610.4 | 申请日： | 2019-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN110875062B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 成田直幸;前田知幸 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/187 | 分类号： | G11B5/187;G11B5/115 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 林娜;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种能够提高记录密度的磁头及磁记录再现装置。根据实施方式，磁头包括磁极、第1屏蔽区域、第2屏蔽区域以及第1层叠体。从所述磁极向所述第1屏蔽区域的方向沿着第1方向。从所述磁极向所述第2屏蔽区域的方向与所述第1方向交叉。所述第1层叠体设置于所述磁极与所述第2屏蔽区域之间。所述第1层叠体包括：第1磁性层，包含选自Fe、Co以及Ni中的至少一个；第1导电层，设置于所述磁极与所述第1磁性层之间；以及第2导电层，设置于所述第1磁性层与所述第2屏蔽区域之间。所述第1方向沿着所述磁极相对的磁记录介质与所述磁极之间的相对的移动方向。 | ||
| 搜索关键词： | 磁头 记录 再现 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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