[发明专利]基于DMD的光刻与打印一体化设备及其构建方法有效

专利信息
申请号: 201910189178.8 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN109774128B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 刘华;罗钧;张莹;陆子凤 申请(专利权)人: 东北师范大学
主分类号: B29C64/135 分类号: B29C64/135;B29C64/268;B33Y30/00;G03F7/20
代理公司: 长春市吉利专利事务所(普通合伙) 22206 代理人: 李晓莉
地址: 130024 吉林*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明基于DMD的光刻与打印一体化设备及其构建方法,属于光学实验辅助结构设备领域,包括DMD空间光调制器、385nmLED光源、管透镜I、半透半反镜、管透镜II、CCD相机、45°反射镜、投影物镜、手动大行程竖直位移台、旋转平台、中空三维压电平台、样品台、打印盒、二维压电平台、转接架、Z方向位移机械杆;本发明可以实现平面光刻和三维打印双重功能,并且提供了系统的构建方法,并且系统结构搭建简单,灵活性高,降低掩模成本,缩短光刻周期,可设计性强,并且能够达到亚微米级的分辨率;提高了工作效率缩短工作周期,避免了由于光刻溶液表面张力引起的结构失真问题;在制作任意三维连续复杂微结构方面提供了新的方法。
搜索关键词: 基于 dmd 光刻 打印 一体化 设备 及其 构建 方法
【主权项】:
1.基于DMD的光刻与打印一体化设备,其特征是:包括DMD空间光调制器(1)、385nmLED光源(2)、管透镜I(3)、半透半反镜(4)、管透镜II(5)、CCD相机(6)、45°反射镜(7)、投影物镜(8)、手动大行程竖直位移台(9)、旋转平台(10)、中空三维压电平台(11)、样品台(12)、打印盒(13)、二维压电平台(14)、转接架(15)及Z方向位移机械杆(16);所述DMD空间光调制器(1)通过DMD芯片装配架设置在光学平台上;所述385nmLED光源(2)通过机械固定架固定在光学平台上,且385nmLED光源(2)通过光纤连接匀光装置,匀光装置的输出端所在直线与DMD空间光调制器(1)上的芯片的空间角为24°;所述管透镜I(3)与半透半反镜(4)设置在光学平台上,且管透镜I(3)、半透半反镜(4)及DMD空间光调制器(1)在同一条直线上,其中管透镜I(3)与DMD空间光调制器(1)的距离为200mm;所述管透镜II(5)及CCD相机(6)均设置在光学平台上,且管透镜II(5)及CCD相机(6)顺次设置在半透半反镜(4)的反射光路上;所述45°反射镜(7)设置在光学平台上,且45°反射镜(7)位于管透镜I(3)与半透半反镜(4)所在的同一条直线上;所述手动大行程竖直位移台(9)设置在光学平台上,其上设置有旋转平台(10),旋转平台(10)上放置有中空三维压电平台(11),且中空三维压电平台(11)内部设置有投影物镜(8),投影物镜(8)设置在45°反射镜(7)竖直上方,且投影物镜(8)的镜头垂直于45°反射镜(7)的反射光路;所述中空三维压电平台(11)上设置有样品台(12),样品台(12)上设置有打印盒(13);所述旋转平台(10)及中空三维压电平台(11)上均设置有通孔,使45°反射镜(7)、投影物镜(8)及的镜头之间没有阻拦;所述Z方向位移机械杆(16)设置在光学平台上,且其通过转接架(15)与二维压电平台(14)连接,二维压电平台(14)位于样品台(12)的竖直上方。
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