[发明专利]一种像素化量子点滤光膜的制备方法有效
申请号: | 201910189557.7 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN109814191B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 孙小卫;王恺;方凡;徐冰;杨鸿程;李祥;刘乙樽 | 申请(专利权)人: | 深圳扑浪创新科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区布吉街道甘李*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种像素化量子点滤光膜的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:(1)将像素化的金属模板置于基膜上,然后将量子点溶液涂覆在金属模板上;(2)除去量子点溶液的溶剂后去除金属基板,得到所述像素化量子点滤光膜。本发明通过金属模板的辅助,将溶剂中量子点限制在基膜的固定位置上,可以使本发明最后得到的滤光膜图案完整,且本发明是通过金属模板的辅助,溶剂和基膜的相互作用,可以确保量子点在制备过程中不会发生荧光猝灭,最后得到的滤光膜均匀性好,稳定性好;本发明提供的制备方法简单易行,对设备要求极低。 | ||
搜索关键词: | 一种 像素 量子 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种像素化量子点滤光膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:(1)将像素化的金属模板置于基膜上,然后将量子点溶液涂覆在金属模板上;(2)除去量子点溶液的溶剂后去除金属基板,得到所述像素化量子点滤光膜。
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