[发明专利]一种像素化量子点滤光膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910189557.7 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN109814191B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 孙小卫;王恺;方凡;徐冰;杨鸿程;李祥;刘乙樽 申请(专利权)人: 深圳扑浪创新科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区布吉街道甘李*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种像素化量子点滤光膜的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:(1)将像素化的金属模板置于基膜上,然后将量子点溶液涂覆在金属模板上;(2)除去量子点溶液的溶剂后去除金属基板,得到所述像素化量子点滤光膜。本发明通过金属模板的辅助,将溶剂中量子点限制在基膜的固定位置上,可以使本发明最后得到的滤光膜图案完整,且本发明是通过金属模板的辅助,溶剂和基膜的相互作用,可以确保量子点在制备过程中不会发生荧光猝灭,最后得到的滤光膜均匀性好,稳定性好;本发明提供的制备方法简单易行,对设备要求极低。
搜索关键词: 一种 像素 量子 滤光 制备 方法
【主权项】:
1.一种像素化量子点滤光膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:(1)将像素化的金属模板置于基膜上,然后将量子点溶液涂覆在金属模板上;(2)除去量子点溶液的溶剂后去除金属基板,得到所述像素化量子点滤光膜。
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