[发明专利]原子态等离子体的形成及维持方法及半导体材料的等离子体处理方法在审

专利信息
申请号: 201910189810.9 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN109922590A 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 刘新宇;尤楠楠;王盛凯;白云 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01L21/04
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种原子态等离子体的形成及维持方法及半导体材料的等离子体处理方法。该方法包括以下步骤:S1,通过微波能量耦合待激发气体,以激发产生等离子体火球;S2,对等离子体火球产生气体扰动,使至少部分等离子体维持在原子态,以调控原子态等离子体与分子态等离子体的激发比例。上述方法中通过微波能量耦合待激发气体以激发产生等离子体火球,然后对等离子体火球产生气体扰动,使至少部分等离子体维持在原子态,实现了对原子态等离子体与分子态等离子体激发比例的调控,具有非常广泛的应用前景。
搜索关键词: 等离子体 原子态 等离子体火球 半导体材料 等离子体处理 微波能量耦合 激发气体 气体扰动 分子态 激发 等离子体激发 调控 应用
【主权项】:
1.一种原子态等离子体的形成及维持方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,通过微波能量耦合待激发气体,以激发产生等离子体火球;S2,对所述等离子体火球产生气体扰动,使至少部分所述等离子体火球中的等离子体维持在原子态,以调控原子态等离子体与分子态等离子体的激发比例。
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