[发明专利]一种垂直功率器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910189814.7 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN110085674B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 何云龙;马晓华;郝跃;杨凌;王冲;毛维 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/778 分类号: H01L29/778;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/47;H01L21/335
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 张捷
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种垂直功率器件及其制作方法,所述垂直功率器件包括依次设置的漏极金属衬底、第一n+GaN接触层、n+GaN过渡层、nGaN渡越层、nGaN沟道层;所述nGaN沟道层的两侧、以及述nGaN渡越层上沟道区以外的区域设置有P‑GaN层;所述nGaN沟道层两侧、P‑GaN层外侧设置有栅电极;所述P‑GaN层和栅电极上设置有介质层;所述nGaN沟道层上设置有第二n+GaN接触层;所述介质层和第二n+GaN接触层上设置源电极。
搜索关键词: 一种 垂直 功率 器件 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种垂直功率器件,其特征在于,包括依次设置的漏极金属衬底、第一n+GaN接触层、n+GaN过渡层、nGaN渡越层、nGaN沟道层;所述nGaN沟道层的两侧、以及述nGaN渡越层上沟道区以外的区域设置有P‑GaN层;所述nGaN沟道层两侧、P‑GaN层外侧设置有栅电极;所述P‑GaN层和栅电极上设置有介质层;所述nGaN沟道层上设置有第二n+GaN接触层;所述介质层和第二n+GaN接触层上设置源电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910189814.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top