[发明专利]掩模台、掩模台系统和曝光装置在审
| 申请号： | 201910193195.9 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN111694224A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 吴韦志 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01H17/00 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;高德志 |
| 地址： | 230001 安徽省合肥市蜀山*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种掩模台、掩模台系统和曝光装置，其中所述掩模台包括：基座、平衡块、动台，其中，所述动台适于放置掩模板；所述平衡块位于基座上，所述平衡块适于使所述动台相对于平衡块无接触移动；所述平衡块的侧壁具有噪声震动检测单元，所述噪声震动检测单元适于检测平衡块的震动或噪音，获得电信号，因而通过检测平衡块产生的震动或噪音，可以判断平衡块是否存在异常，进而可以判断线圈阵列和/或平衡块上的永磁体阵列是否存在破损或松动，或者是否达到使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模台 系统 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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