[发明专利]光耦合输出层材料、合成方法及其应用在审
| 申请号： | 201910193856.8 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN109912497A | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 罗佳佳 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C07D209/94 | 分类号： | C07D209/94;C07D413/14;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供一种光耦合输出层材料、合成方法及其应用。光耦合输出层材料，通式所示结构为 |
||
| 搜索关键词： | 光耦合输出层 目标化合物 合成 电致发光器件 纯化处理 合成步骤 末端连接 吸收波段 萃取步骤 咔唑单元 桥连 蒸镀 配制 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光耦合输出层材料，其特征在于，具有通式所示结构：![]()
其中，R1的分子结构为以下分子结构中的任一种：![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司，未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910193856.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
