[发明专利]半导体结构的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910194047.9 申请日: 2019-03-14
公开(公告)号: CN111696968B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 吴秉桓;全昌镐 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L21/78;H01L21/98
代理公司: 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 代理人: 成丽杰
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明实施例涉及一种半导体结构的制造方法,包括:形成晶圆堆叠结构,所述晶圆堆叠结构包括至少二片晶圆,所述晶圆包括若干芯片;对所述晶圆堆叠结构进行切割步骤,且在所述晶圆堆叠结构切割步骤之后,所述晶圆堆叠结构中的所述若干芯片处于未分离状态;进行所述芯片分离步骤,使所述晶圆堆叠结构中的所述芯片相分离。本发明能够有效的避免对晶圆中芯片造成误切割,改善半导体结构的性能。
搜索关键词: 半导体 结构 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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