[发明专利]一种减薄碳化硅片的方法、装置及其应用有效
申请号: | 201910194173.4 | 申请日: | 2019-03-14 |
公开(公告)号: | CN109979808B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 林信南;刘美华 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
主分类号: | H01L21/04 | 分类号: | H01L21/04;H01L21/67 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 李小焦;郭燕 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种减薄碳化硅片的方法、装置及其应用。本申请的方法包括,沉积步骤,在碳化硅片背面沉积金属层;热反应步骤,在惰性气氛下进行高温热处理;贴膜保护步骤,在碳化硅片正面粘贴保护膜;酸腐蚀步骤,采用酸性溶液对碳化硅片进行浸泡;水洗步骤,对碳化硅片进行水冲洗,干燥;机械磨削步骤,采用磨头对碳化硅片的背面进行磨削;去保护膜步骤,去除粘贴在碳化硅片正面的保护膜。本申请的方法,利用金属层中的金属在高温下与碳化硅中的硅发生互溶反应,改变碳化硅背面表层的物理化学性质,降低表层硬度,使其能正常使用硅圆片减薄设备进行减薄,不仅减薄效果良好,而且极大的降低了碳化硅片产品的生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化 硅片 方法 装置 及其 应用 | ||
【主权项】:
1.一种减薄碳化硅片的方法,其特征在于:包括以下步骤,沉积步骤,包括在碳化硅片的背面沉积金属层;热反应步骤,包括将沉积金属层的碳化硅片在惰性气氛下进行高温热处理;贴膜保护步骤,包括在碳化硅片正面粘贴保护膜;酸腐蚀步骤,包括采用酸性溶液对贴保护膜的碳化硅片进行浸泡;水洗步骤,包括对酸性溶液浸泡的产物进行水冲洗,并干燥;机械磨削步骤,包括采用磨头对酸腐蚀和水洗后的碳化硅片的背面进行磨削,使碳化硅片减薄;去保护膜步骤,包括去除粘贴在碳化硅片正面的保护膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学深圳研究生院,未经北京大学深圳研究生院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910194173.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体装置的制造方法
- 下一篇:一种单晶薄膜的制备方法、单晶薄膜及谐振器装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造