[发明专利]一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置有效

专利信息
申请号: 201910197496.9 申请日: 2019-03-15
公开(公告)号: CN109933101B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 陈务军;张祎贝;谢超;彭福军;张华 申请(专利权)人: 上海交通大学;上海宇航系统工程研究所
主分类号: G05D15/01 分类号: G05D15/01
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 郑立
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置,包括支撑模组、张拉控制模组和薄膜夹持模组;其中,所述张拉控制模组底部固定安装于所述支撑模组顶部,所述薄膜夹持模组底部固定安装于所述张拉控制模组顶部;所述支撑模组被配置为固定和支撑所述张拉控制模组,所述张拉控制模组被配置为张拉薄膜和检测薄膜的应力。本发明采用双层结构设计模式,减小整体装置尺寸,扩大薄膜试件在整体结构尺寸占比,以便放置于真空装置中进行模态测试,合理设计张拉控制装置并配置拉压传感器,可直接测量薄膜试件应力数值,提高模态测试精度。
搜索关键词: 一种 高精度 均匀 力场 薄膜 双向 控制 装置
【主权项】:
1.一种高精度均匀应力场薄膜双向张拉控制装置,其特征在于,包括支撑模组、张拉控制模组和薄膜夹持模组;其中,所述张拉控制模组底部固定安装于所述支撑模组顶部,所述薄膜夹持模组底部固定安装于所述张拉控制模组顶部;所述支撑模组被配置为固定和支撑所述张拉控制模组,所述张拉控制模组被配置为张拉薄膜和检测薄膜的应力。
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