[发明专利]双能X射线光栅干涉成像系统及方法有效
| 申请号： | 201910199388.5 | 申请日： | 2019-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN110068585B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 邓锴;谢卫平;李晶;袁建强 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
| 主分类号： | G01N23/041 | 分类号： | G01N23/041;G01N23/083 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;邹蕴 |
| 地址： | 621999*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双能X射线光栅干涉成像系统及方法，具备：具有一定相干性能通过调节产生预定的两种不同能量X射线的光源；能对预定的两种不同能量的X射线产生相同的相位移动的双能相位光栅，从而在双能相位光栅后相同位置产生同样的周期性竖状条纹；分辨率优于竖状条纹的周期的X射线探测器，光源为平行光，从光源入射X射线的方向依次配置待测样品、双能相位光栅和探测器。根据本发明，针对上述问题，本发明的目的在于提供一种双能X射线光栅干涉成像系统及方法，可实现双能光栅干涉成像，从而能获取样品两个能量下的线性衰减因子、相移因子、散射因子等信息，可有效进行物质鉴别、缺陷诊断等。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 光栅 干涉 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种双能X射线光栅干涉成像系统，其特征在于，具备：具有一定相干性能通过调节产生预定的两种不同能量X射线的光源；能对所述预定的两种不同能量的X射线产生相同的相位移动的双能相位光栅，从而在所述双能相位光栅后相同位置产生同样的周期性竖状条纹；分辨率优于所述竖状条纹的周期的X射线探测器，所述光源为平行光，从所述光源入射X射线的方向依次配置所述待测样品、所述双能相位光栅和所述探测器。
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