[发明专利]一种无缺陷乱层堆叠石墨烯纳米膜的制备方法与应用有效
| 申请号： | 201910200705.0 | 申请日： | 2019-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN109911888B | 公开（公告）日： | 2021-04-09 |
| 发明（设计）人： | 高超;彭蠡;许震;刘一晗 | 申请（专利权）人： | 杭州高烯科技有限公司;浙江大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;C01B32/194;H01L31/0224 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 311113 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无缺陷乱层堆叠石墨烯纳米膜的制备方法与应用，其中，2000度处理，修复了大部分的缺陷结构，同时保持了石墨烯片层乱层堆叠的状态。3000度的高温保证了缺陷的完全修复弥合。快速的升温减少了石墨烯片层堆积结构调整的时间，使得其来不及进行AB结构的调整。非ab结构使得层间作用力减弱，增加水平方向的热导率。无缺陷结构有利于电子的传输，不会形成电阻和热阻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 堆叠 石墨 纳米 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种无缺陷乱层堆叠石墨烯纳米膜的制备方法，其特征在于，包含如下步骤：(1)制备独立自支撑的石墨烯膜；厚度方向，石墨烯膜的层数不大于200；(2)将独立自支撑的石墨烯膜逐步升温到2000℃，升温速度不大于60℃/min，2000℃维持2‑6小时；然后逐步升温到3000℃，升温速度为20～60℃/min，3000℃维持5～10小时。
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