[发明专利]投射光学系统以及投射型图像显示装置有效
申请号: | 201910202119.X | 申请日: | 2019-03-18 |
公开(公告)号: | CN110286465B | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
发明(设计)人: | 峯藤延孝 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B17/08;G03B21/28 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 邓毅;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供投射光学系统以及投射型图像显示装置,能够使光学系统整体形成为紧凑的结构。形成中间像的第1光学组(40a)和对由第1光学组(40a)形成的中间像进行放大投射的第2光学组(40b)满足各种条件。由此,首先,在投射光学系统(40)被组装到投影仪(2)中的情况下,成为以半视场角为50°以上的视场角进行放大投影的超广角结构。接着通过将具有两个光路偏转部(AP1、AP2)的光路偏转光学系统(60)配置在第1光学组(40a)与第2光学组(40b)之间,抑制了性能劣化,并且使光路弯折。 | ||
搜索关键词: | 投射 光学系统 以及 图像 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种投射光学系统,该投射光学系统从缩小侧起依次具有:第1光学组,其由多个透镜构成;以及第2光学组,其由至少1个光学元件构成,该投射光学系统的特征在于,所述第1光学组形成缩小侧共轭位置的图像的中间像,所述第2光学组以半视场角为50°以上的视场角对由所述第1光学组形成的中间像进行放大投影,该投射光学系统具有光路偏转光学系统,该光路偏转光学系统配置在所述第1光学组与所述第2光学组之间,具有第1光路偏转部和第2光路偏转部,其中,该第1光路偏转部使所述第1光学组的光轴发生偏转,该第2光路偏转部使被所述第1光路偏转部偏转后的光轴进一步偏转而回到所述第1光学组的光轴的行进方向,在将所述缩小侧共轭位置到所述第1光学组的最靠缩小侧的面的空气换算距离设为Fb1,将所述第1光学组的最靠放大侧的面到形成中间像的光轴上的近轴焦点位置的距离设为Fb2,将所述第1光学组的全长设为TL时,满足条件式0.1<Fb1/Fb2<0.3···(1)0.8<Fb2/TL<2.0···(2)。
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