[发明专利]一种清除微粒的装置及方法在审
申请号: | 201910205192.2 | 申请日: | 2019-03-18 |
公开(公告)号: | CN109822215A | 公开(公告)日: | 2019-05-31 |
发明(设计)人: | 朱广志;陈明翔;杨璟;朱加琦;李亮;朱晓;王海林 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B23K26/16 | 分类号: | B23K26/16 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种清除微粒的装置及方法,第一种结构包括超声波发生器;其中,所述超声波发生器产生竖直向上或者竖直向下的纵波,经工作物件反射形成驻波。第二种结构包括超声波发生器,平板玻璃;其中,超声波发生器产生竖直向下的纵波,由于所述工作物件与超声波发生器满足声波高透条件,透过工作物件的超声波通过平板玻璃反射,在超声波发生器与平板玻璃间形成驻波。本发明将溅射颗粒悬浮于空中,便于有效清除,同时可有效防止微粒回落,提高激光打孔的效率和准确度;且防止了回落微粒对工作物件表面的烧蚀,提高了工作物件的平整度。 | ||
搜索关键词: | 超声波发生器 工作物件 平板玻璃 竖直向下 驻波 纵波 反射 回落 有效防止微粒 激光打孔 颗粒悬浮 竖直向上 准确度 声波 超声波 平整度 溅射 烧蚀 | ||
【主权项】:
1.一种清除微粒的装置,其特征在于,包括:超声波发生器;所述超声波发生器用于产生纵波;工作状态下,所述工作物件与超声波发生器平行放置;所述工作物件与所述超声波发生器的高度距离为用于将所述超声波发生器产生的纵波反射形成驻波;其中,n为大于等于1的整数,λ为纵波波长。
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