[发明专利]一种沿<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910206530.4 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN109721103B 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 黄寒;刘金鑫;施姣;陈凤鸣;肖君婷 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C01G39/02 分类号: C01G39/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 11569 北京高沃律师事务所 代理人: 瞿晓晶
地址: 410000 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种沿<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒及其制备方法,属于纳米材料技术领域,包括以下步骤:以m面蓝宝石为基底,硫块和三氧化钼粉末为反应原料,进行常压化学气相沉积,得到沿<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒;所述硫块与三氧化钼粉的质量比为10~20:1。本发明以m面蓝宝石为基底,通过常压化学气相沉积的方法得到了<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒。所得纳米棒为单斜晶系,结晶性好,定向性高,生长分布均匀。
搜索关键词: 纳米棒 二氧化钼 晶向 生长 常压化学气相沉积 基底 制备 纳米材料技术 三氧化钼粉末 三氧化钼粉 单斜晶系 反应原料 定向性 结晶性 质量比
【主权项】:
1.一种沿<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒的制备方法,包括以下步骤:/n以m面蓝宝石为基底,硫块和三氧化钼粉末为反应原料,进行常压化学气相沉积,得到沿<010>晶向生长的二氧化钼纳米棒;所述硫块与三氧化钼粉的质量比为10~20:1;/n所述常压化学气相沉积的反应器为双温区反应器,所双述温区反应器沿载流气体方向分为第一温区和第二温区;所述硫块位于第一温区,所述基底和三氧化钼粉末位于第二温区,所述基底位于三氧化钼粉末之上;/n所述常压化学气相沉积的控温程序为:所述第二温区的温度由室温进行第一升温至第一温度进行第一保温,然后第二升温至第二温度进行第二保温,第二保温后依次进行第一冷却和第二冷却;/n所述第一升温的速率为15~20℃/min,所述第一温度为300℃,第一保温的时间为20~30min;所述第二升温的速率为13~15℃/min,所述第二温度为750~780℃,所述第二保温的时间为10~15min;所述第一冷却的速率为10℃/min,时间为20~23min,所述第一冷却后的温度为550℃;所述第二冷却的时间为20~25min,所述第二冷却后的温度为20~30℃;/n所述第一温区的温度保持在80℃直到第二温区的温度达到660~690℃时第三升温至第三温度进行第三保温;所述第三升温速率为20~25℃/min,所述第三温度为200~220℃,所述第三保温的时间为20~25min;/n所述第一升温过程中载流气体的流速为300~500sccm;所述第二升温和第二保温过程中载流气体的流速为50~100sccm;所述第一冷却过程中载流气体的流速为50~100sccm;所述第二冷却过程中的流气体的流速为500sccm。/n
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