[发明专利]一种图案化电阻薄膜电热元器件的制备方法在审
| 申请号： | 201910207083.4 | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN109913803A | 公开（公告）日： | 2019-06-21 |
| 发明（设计）人： | 王鹏;乔丽;柴利强;张瀚文 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/18;H05B3/22 |
| 代理公司： | 兰州智和专利代理事务所(普通合伙) 62201 | 代理人： | 张英荷 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种图案化电阻薄膜电热元器件的制备方法，是将镂空图案化掩膜板覆于氮化硅衬底上，通过物理气相沉积法先使用200~300W直流电源溅射钛靶，在氮化硅衬底上沉积钛膜，再使用180~220W直流电源溅射铂靶，在钛膜上沉积铂膜，得到图案化铂钛多层薄膜的电热元器件。本发明制备的图案化电热元器件的图案化薄膜膜基结合力高，器件通电后电阻值变化微小、升温速率快、铂与钛薄膜界面及电阻特性保持稳定，兼具优异的电学和力学性能，提高了图案化电阻薄膜器件综合服役性能，而且其工艺简单、成分可控、特别适用于在复杂环境下服役的航天器展开热刀装置。 | ||
| 搜索关键词： | 图案化 电热元器件 电阻薄膜 制备 直流电源 氮化硅 衬底 溅射 物理气相沉积法 电阻值变化 膜基结合力 图案化薄膜 沉积铂膜 沉积钛膜 电阻特性 多层薄膜 服役性能 复杂环境 力学性能 热刀装置 镂空图案 电学 掩膜板 再使用 钛薄膜 航天器 铂钛 可控 钛靶 钛膜 通电 | ||
【主权项】：
1.一种图案化电阻薄膜电热元器件的制备方法，是将镂空图案化掩膜板覆于氮化硅衬底上，通过物理气相沉积法先使用200~300W直流电源溅射钛靶，在氮化硅衬底上沉积钛膜，再使用180~220W的直流电源溅射铂靶，在钛膜上沉积铂膜，得到图案化铂钛多层薄膜的电热元器件。
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