[发明专利]原位制备高通量薄膜并原位至微纳加工的装置及方法

摘要

本发明提供一种原位制备高通量薄膜并原位至微纳加工的装置及方法，属于薄膜材料高通量制备及微纳加工技术领域。该装置包括基体、激光器、加热器、镀膜设备、甩胶腔体和电子束曝光腔，薄膜样品在真空或气氛条件采用激光加热，激光采用垂直照射，能量通过系统设置调整。通过掩膜板，用激光脉冲沉积方法制备成分连续分布、厚度梯度分布的高通量薄膜样品。高通量样品在横向成分连续分布，纵向厚度梯度分布，然后再激光脉冲沉积一层电极层，并通过原位输运至另一腔体中甩胶再原位输运至电子束曝光腔中进行感光胶曝光，原位获得制有图案的高通量薄膜。本发明可以实现高通量薄膜的制备、微纳图样制备并为后续电学测量提供原位的高通量样品。

主权项

1.一种原位制备高通量薄膜并原位至微纳加工的装置，其特征在于：包括基体(1)、激光器(2)、加热器(3)、镀膜设备(4)、甩胶腔体(5)和电子束曝光腔(6)，基体(1)置于镀膜设备(4)的样品台(7)上，激光器(2)和加热器(3)分别连接镀膜设备(4)，镀膜设备(4)和电子束曝光腔(6)之间设置甩胶腔体(5)。