[发明专利]一种高场强高靶材利用率的阴极在审
| 申请号： | 201910209403.X | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN109735821A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 张奇龙;李伟 | 申请（专利权）人： | 杭州朗为科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310000 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射阴极，公开了一种高场强高靶材利用率的阴极，其核心是由磁钢组和磁轭组成的磁路模块，磁钢组通过磁力与磁轭连接，磁路模块包括一个磁轭，磁钢组由五道不等距且平行放置的磁钢组成，磁钢的磁极交错设置。本发明提供的磁路结构使得阴极表面拥有更多的与靶材平行的磁场分量，能够对靶面进行更大面积的刻蚀，从而提升了靶材的利用率，有效节省了材料；单个靶材使用时间的延长，可以避免频繁更换靶材，降低开真空室的次数，保证生产的连续性，提高工作效率，也可以改善产品的洁净度。另外，该阴极通过五道磁钢的配合，在提供更多平行磁场分量的同时保证了靶材表面的磁场强度，可以对导磁性材料或者较厚的靶材进行有效溅射，拓宽了产品的应用领域，也对溅射效率进行了有效提高。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 阴极 磁钢组 磁钢 磁轭 靶材利用率 高场强 磁路 溅射 磁极 磁控溅射阴极 平行磁场分量 导磁性材料 靶材表面 磁场分量 磁路结构 工作效率 交错设置 平行放置 阴极表面 磁力 不等距 洁净度 真空室 对靶 刻蚀 磁场 平行 保证 配合 生产 | ||
【主权项】：
1.一种高场强高靶材利用率的阴极，包括磁钢组（2）和磁轭（1），磁钢组（2）通过磁力与磁轭（1）连接，其特征在于：磁路模块（5）包括一个磁轭（1），磁钢组（2）包括五道不等距且平行设置的磁钢（21），磁钢（21）的磁极交错设置。
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