[发明专利]基于微透镜阵列数字成像的单目测距方法有效
| 申请号： | 201910210286.9 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN109883391B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 赵文超;李斌;赵凯 | 申请（专利权）人： | 北京环境特性研究所 |
| 主分类号： | G01C3/32 | 分类号： | G01C3/32 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人： | 周娇娇;张利明 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于微透镜阵列数字成像的单目测距方法，包括：采用微透镜阵列相机获得基准样本的样本四维光场图像,通过不同数字重聚焦参数对样本四维光场图像进行数字重聚焦，获得多个样本重聚焦图像；由样本重聚焦图像获得数字成像聚焦面对应的最清晰分区的测距距离；对不同数字重聚焦参数与相应的测距距离进行拟合，获得测距拟合曲线；再采用微透镜阵列相机获得目标四维光场图像，选择数字重聚焦参数对目标四维光场图像进行数字重聚焦，获得目标重聚焦图像；对目标重聚焦图像进行处理，结合测距拟合曲线获得目标距离。本发明仅需单次曝光后经过成像算法便可获得不同深度的图像序列，可用于呈现动态变化并对实时性要求高的目标测距。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 透镜 阵列 数字 成像 目测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于微透镜阵列数字成像的单目测距方法，其特征在于包括：采用微透镜阵列相机获得基准样本的样本四维光场图像,通过不同数字重聚焦参数对样本四维光场图像进行数字重聚焦，获得多个样本重聚焦图像；对每个样本重聚焦图像的不同分区进行清晰度计算确定最清晰分区，将最清晰分区对应的位置作为当前数字重聚焦参数下的数字成像聚焦面，由数字成像聚焦面计算获得所述最清晰分区的测距距离；计算不同数字重聚焦参数对应的不同数字成像聚焦面，并确定不同样本重聚焦图像中最清晰分区的测距距离；对不同数字重聚焦参数与相应的测距距离进行拟合，获得测距拟合曲线；再采用微透镜阵列相机获得目标四维光场图像，选择数字重聚焦参数对目标四维光场图像进行数字重聚焦，获得目标重聚焦图像；对目标重聚焦图像进行处理，结合测距拟合曲线获得目标距离。
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