[发明专利]基板机架以及基板处理系统和方法在审
| 申请号： | 201910211554.9 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN110323118A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | D·皮埃罗;W·克纳彭;B·琼布洛德;C·T·赫布施莱布;H·斯普雷 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 丁晓峰 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板机架和一种用于在反应室中处理基板的基板处理系统。所述基板机架可以用于在所述反应室中引入多个基板。所述基板机架可以具有多个间隔开的基板保持装置，所述基板保持装置被配置成以间隔开的关系保持所述基板。所述机架可以具有照明系统，以将具有100至500纳米范围的辐射照射到所述基板的顶表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 基板保持装置 基板处理系统 反应室 处理基板 多个基板 关系保持 照明系统 顶表面 照射 辐射 引入 配置 | ||
【主权项】：
1.一种被构造成用于在基板处理系统的反应室中保持多个基板的基板机架，所述基板机架包括多个间隔开的基板保持装置，所述基板保持装置被配置成以间隔开的关系保持所述多个基板，其中所述基板机架包括照明系统，所述照明系统被构造和布置成将具有100至500纳米范围的紫外辐射辐射到在所述基板保持装置中保持的所述基板中的至少一个的顶表面上。
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