[发明专利]利用飞秒激光刻写波导进行光栅性能优化的技术在审
申请号: | 201910212076.3 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109946785A | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 王东宁;汪乔翰;张华 | 申请(专利权)人: | 杭州光飞秒科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种利用飞秒激光刻写波导进行光栅性能优化的技术,可提高多模光纤中光栅制作的质量,并且使无芯光纤中制作光栅成为可能。本发明所采取的技术方案为:利用飞秒激光刻写波导进行光栅性能优化的技术;其特征在于:在制作传统光纤光栅前,通过本技术方案,由飞秒激光在无芯或多模光纤中制作波导,所制作的光栅具有较高的边模抑制比和较窄的布拉格波长反射峰带宽。 | ||
搜索关键词: | 光栅 飞秒激光 波导 刻写 性能优化 多模光纤 制作 边模抑制比 布拉格波长 传统光纤 光栅制作 无芯光纤 反射峰 无芯 带宽 | ||
【主权项】:
1.本发明所提出的技术为:利用飞秒激光刻写波导进行光栅性能优化的技术;其特征在于:在制作传统光纤光栅前,通过本技术方案,由飞秒激光在无芯或多模光纤制作波导,所制作的光栅具有较高的边模抑制比和较窄的布拉格波长反射峰带宽。
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