[发明专利]全局上下文先验约束的抗遮挡人脸超分辨率方法及其系统有效

专利信息
申请号: 201910213713.9 申请日: 2019-03-20
公开(公告)号: CN109934193B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 陈亮;吴怡;杨正;郑云 申请(专利权)人: 福建师范大学
主分类号: G06V40/16 分类号: G06V40/16;G06T3/40
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350108 福建省福州*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了全局上下文先验约束的抗遮挡人脸超分辨率方法及其系统,包括:S1:构建高低分辨率训练库;S2:采用相同的分块方式将待处理低分辨率人脸图像和训练库中图像划分为具交叠部分的图像块;S3:为高分辨率人脸图像库中每一个人脸图像块位置计算其与其他人脸图像块位置的关联度;S4:关联度删减模块,将弱关联度的连接全部去掉留下关联度高的指定数目的连接;S5:对待处理低分辨率人脸图像的每一个块位置做遍历和预处理,判断每个待处理块的遮挡程度;S6:恢复每一个无遮挡待处理图像块;S7:恢复每一个有遮挡待处理图像块;S8:拼接高分辨率人脸图像块。本发明可显著提高恢复图像的视觉感受,特别适用于低质量监控环境下人脸图像的恢复。
搜索关键词: 全局 上下文 先验 约束 遮挡 人脸超 分辨率 方法 及其 系统
【主权项】:
1.基于全局上下文先验约束的抗遮挡人脸超分辨率方法,其特征在于:其包括以下步骤:S1:构建包含高分辨率人脸图像库及其对应的低分辨率人脸图像库的训练库;S2:采用相同的分块方式将待处理低分辨率人脸图像、以及训练库中图像划分为具交叠部分的图像块,所述图像块为边长为bb的正方形图像块;S3:在分块基础上,分别为高分辨率人脸图像库和低分辨率人脸图像库做预处理,求取每一个位置与其他位置块的关联度,即针对高分辨率人脸图像库中每一个人脸图像块位置,计算其与其他人脸图像块位置的关联度;S4:将得到的关联度向量中弱关联度的连接全部去掉,仅留下关联度高的指定数目的连接;S5:对待处理低分辨率人脸图像xin的每一个块位置做遍历和预处理,判断每个待处理块的遮挡程度;S6:统一超分辨率恢复每一个无遮挡区域的图像块;S7:统一超分辨率恢复每一个有遮挡区域的图像块;S8:按位置拼接S7和S6所得高分辨率人脸图像块,得高分辨率人脸图像。
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