[发明专利]脂环族二酐单体及高透明低介电常数聚酰亚胺薄膜在审
申请号: | 201910214276.2 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109912616A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 曹春;李伟杰;周光大;林建华 | 申请(专利权)人: | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 |
主分类号: | C07D493/04 | 分类号: | C07D493/04;C07D307/89;C07D307/93;C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 邱启旺 |
地址: | 311305 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种脂环族二酐单体及高透明低介电常数聚酰亚胺薄膜,本发明首先将二胺单体充分溶解于非质子性极性溶剂中,之后加入溶解有脂环族二酐单体的非质子性极性溶液,并在氮气或惰性气体的保护下于‑10~35℃范围内反应0.5‑6h,得到脂环族聚酰亚胺前体溶液,然后将脂环族聚酰亚胺前体溶液涂布于基材上,酰亚胺化后进行应力消除,制得高透明低介电常数聚酰亚胺薄膜。本发明制备的薄膜,其介电常数及介电损耗低,显示出优异的透光性能。此外,还具有良好的力学性能,可以满足微电子工业级特殊显示领域的应用要求。 | ||
搜索关键词: | 聚酰亚胺薄膜 低介电常数 脂环族二酐 高透明 脂环族聚酰亚胺 前体溶液 溶解 非质子性极性溶剂 氮气 微电子工业 惰性气体 二胺单体 非质子性 极性溶液 介电常数 介电损耗 力学性能 透光性能 应力消除 应用要求 酰亚胺化 基材 制备 薄膜 | ||
【主权项】:
1.一种脂环族二酐单体,其特征在于,它具有如下(1)~(6)所示任意一种结构:其中,R1为如下结构(7)~(15)中的任意一种:其中,1≤n≤6。
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