[发明专利]二苯并[f,h]喹喔啉的合成方法、二苯并[f,h]喹喔啉衍生物及发光装置有效

专利信息
申请号: 201910216048.9 申请日: 2014-09-12
公开(公告)号: CN109912518B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 井上英子;久保田朋广;濑尾哲史;山脇隼人;北野靖 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: C07D241/38 分类号: C07D241/38;C09K11/06;H01L51/54
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的一个方式提供一种减少了杂质的二苯并[f,h]喹喔啉衍生物以及合成减少了杂质的二苯并[f,h]喹喔啉衍生物的新颖的合成方法,及使用上述二苯并[f,h]喹喔啉衍生物作为EL材料的发光效率及可靠性高的发光元件、发光装置、电子设备或者照明装置。本发明的一个方式是一种减少了杂质的二苯并[f,h]喹喔啉衍生物以及其合成方法,其中,通过经由合成中间体2‑(氯芳基)二苯并[f,h]喹喔啉衍生物,能够容易利用升华纯化去除包含于最终生成物中的杂质,因此能够减少杂质。
搜索关键词: 喹喔啉 合成 方法 衍生物 发光 装置
【主权项】:
1.一种合成方法,其中,通过使由式(301)所示的2‑氯二苯并[f,h]喹喔啉衍生物与由式(401)所示的3‑氯苯基硼酸偶联,合成由式(100)所示的2‑(3‑氯苯基)二苯并[f,h]喹喔啉,通过使获得的由式(100)所示的2‑(3‑氯苯基)二苯并[f,h]喹喔啉与由式(501)所示的3‑(二苯并噻吩‑4‑基)苯基硼酸偶联,合成由式(200)所示的2‑[3’‑(二苯并噻吩‑4‑基)联苯‑3‑基]二苯并[f,h]喹喔啉,
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