[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明涉及一种基板处理装置，防止存在于腔室的处理空间的流体通过旋转轴被贯通的部位流出到腔室外部。该基板处理装置包括：腔室，内部形成有处理基板的处理空间；旋转轴，从腔室的外侧贯通腔室，配置在处理空间中；支撑架，设置在腔室的内侧壁，中心处设置有由旋转轴贯通的第一贯通部；盖壳体，配置为从支撑架向腔室的内部空间的方向隔开一定距离，中心处设置有由旋转轴贯通的第二贯通部，用于在处理空间与支撑架一起支撑旋转轴；密封盖，配置在旋转轴的外周面，并配置在第二贯通部的内部空间；第一密封构件，一端配置为接触旋转轴的外周面，另一端配置在密封盖的外侧面和密封盖的内侧面之间，防止处理空间的流体沿着旋转轴流出到腔室的外部。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，在内部形成有处理基板的处理空间；旋转轴，从所述腔室的外侧贯穿所述腔室，且一部分配置于所述处理空间；支撑架，设置在所述腔室的内侧壁，且中心处设置有由所述旋转轴贯通的第一贯通部；盖壳体，配置为从所述支撑架向所述腔室的内部空间的方向隔离一定间隔，中心处设置有由所述旋转轴贯通的第二贯通部，且用于在所述处理空间内支撑所述旋转轴；密封盖，配置在所述旋转轴的外周面，并配置在所述第二贯通部的内部空间；以及第一密封构件，一端配置为接触所述旋转轴的外周面，另一端配置在所述密封盖的外侧面和所述密封盖的内侧面之间，使得防止存在于所述处理空间的流体沿着所述旋转轴流出到腔室的外部。