[发明专利]一种硼烷阴离子超分子有机框架材料及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201910221016.8 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN109851810B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 邢华斌;张袁斌;崔希利;赵宁 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C08G83/00 | 分类号： | C08G83/00;C07C7/12;C01B32/50;B01J20/22;B01D53/02;B01J20/30;C07C9/04;C07C9/06;C07C9/08;C07C11/04;C07C11/24 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种硼烷阴离子超分子有机框架材料，该材料首先是由金属离子M与有机含氮配体L配位形成二维平面结构，再通过笼状硼烷阴离子[B |
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| 搜索关键词： | 一种 阴离子 分子 有机 框架 材料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种硼烷阴离子超分子有机框架材料，其特征在于，由金属离子M与有机含氮配体L配位形成二维平面结构，再与笼状硼烷阴离子[B12H12]2‑或[B10H10]2‑联接形成三维框架结构得到；所述笼状硼烷阴离子[B12H12]2‑的结构式如式(I)所示：![]()
所述笼状硼烷阴离子[B10H10]2‑的结构式如式(II)所示：![]()
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