[发明专利]一种用于硅片抛光的纳米氧化铈的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910221796.6 申请日: 2019-03-22
公开(公告)号: CN109734121A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 韦家谋;田震;罗冷 申请(专利权)人: 韦家谋
主分类号: C01F17/00 分类号: C01F17/00;C09G1/02;B82Y40/00
代理公司: 长沙明新专利代理事务所(普通合伙) 43222 代理人: 徐新
地址: 410082 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种用于硅片抛光的纳米氧化铈的制备方法,包括以下步骤:a、将一定量的硅酸盐加水搅拌溶解,再将不溶解的铈盐加到硅酸盐与水的溶液中,再经过球磨,得到均匀分散好的浆料;b、将步骤a所得的浆料采用闪蒸的方式进行干燥,得到干燥的、均匀的、细致的粉料;c、将步骤b所得的粉料进行煅烧,即成。本发明具有工艺简单,对设备要求不高,产生易于吸收处理的尾气,生产成本低,粒径在100‑120nm、粒径分布窄、易于分散等优点。
搜索关键词: 纳米氧化铈 硅片抛光 粉料 浆料 制备 硅酸盐 硅酸盐加水 生产成本低 搅拌溶解 粒径分布 吸收处理 对设备 粒径 球磨 闪蒸 煅烧 铈盐 尾气 溶解
【主权项】:
1.一种用于硅片抛光的纳米氧化铈的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:a、将一定量的硅酸盐加水搅拌溶解,再将不溶解的铈盐加到硅酸盐与水的溶液中,经过球磨,得到均匀分散好的浆料;b、将步骤a所得的浆料采用闪蒸的方式进行干燥,得到干燥的、均匀的、细致的粉料;c、将步骤 b所得的粉料进行煅烧,即成。
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