[发明专利]一种微纳复合绒面结构的多晶黑硅制备方法在审
| 申请号： | 201910222768.6 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN111719186A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 何其金;张靖;何飞 | 申请（专利权）人： | 江苏德润光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;C30B29/06;H01L31/0236;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 艾秀丽 |
| 地址： | 225600 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公布了多晶黑硅技术领域的一种微纳复合绒面结构的多晶黑硅制备方法：硅片：氢氧化钾；硝酸：清水；硝酸银：氢氟酸：金属离子银：碱性溶液；将硅片先放入到由氢氧化钾与硝酸组成的混合腐蚀溶液，得到具有微米绒面结构的多晶硅片，从而增加了多晶硅片的表面积，而且还对多晶黑硅进行了初级简易的加工，去除掉了原始多晶硅片表面的在切割或者打磨时的损伤层，然后在放入到硝酸银与氢氟酸组成的溶液中，并添加金属离子银，即可得到具有微纳复合绒面结构的多晶硅片，最后将多晶硅片发入到氢氧化钠强碱性溶液，对多晶硅片的结构修正刻蚀，减少降低多晶硅片的反射率，从而得到纳米级类金字塔结构的微纳复合绒面结构多晶黑硅。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 结构 多晶 制备 方法 | ||
【主权项】：
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