[发明专利]片式爆炸箔的制备方法有效
| 申请号： | 201910223251.9 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN109945746B | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 李鸿高;朱朋;郑国强;姚艺龙;宋泽润 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十三研究所 |
| 主分类号： | F42B3/195 | 分类号： | F42B3/195 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 金凯 |
| 地址： | 230088 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种片式爆炸箔的制备方法，包括以下步骤：在基板上沉积第一复合金属膜作为换能元；采用光刻工艺，刻蚀所述第一复合金属膜，制备换能元图形阵列；所述第一复合金属膜上沉积复合聚合物薄膜，在所述聚合物薄膜上沉积第二复合金属膜，制成聚合物/金属复合飞片层；采用光刻工艺，刻蚀所述第二复合金属膜，制备金属飞片图形阵列；使用环氧型光刻胶，采用光刻工艺制成加速膛；采用热处理工艺，固化所述加速膛；刻蚀所述聚合物薄膜，将爆炸箔焊盘区露出；将片式爆炸箔图形阵列分割成至少两个小单元。将爆炸箔、飞片层、加速膛一体化制备，采用本发明的方法极大的提高了生产效率，且制备的爆炸箔降低了发火能量，具有良好的稳定性和环境适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 爆炸 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种片式爆炸箔的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a、在基板上沉积第一复合金属膜作为换能元；b、采用光刻工艺，刻蚀所述第一复合金属膜，制备换能元图形阵列；c、所述第一复合金属膜上沉积复合聚合物薄膜，在所述聚合物薄膜上沉积第二复合金属膜，制成聚合物/金属复合飞片层；d、采用光刻工艺，刻蚀所述第二复合金属膜，制备金属飞片图形阵列；e、使用环氧型光刻胶，采用光刻工艺制成加速膛；f、采用热处理工艺，固化所述加速膛；g、刻蚀所述聚合物薄膜，将爆炸箔焊盘区露出；h、将片式爆炸箔图形阵列分割成至少两个小单元。
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